Auf dem Weg zu kostengĂŒnstigen Solarzellen

Auf der europĂ€ischen Photovoltaik-Ausstellung PVSEC 2011 in Hamburg prĂ€sentiert das Fraunhofer FEP neue DĂŒnnschicht-Prozesse, die die Produktionskosten von Solarzellen drastisch senken könnten.

Die DĂŒnnschicht-Photovoltaik bietet großes Potential, PV-Module gĂŒnstiger zu produzieren und verfĂŒgbare Ressourcen effizient zu nutzen.
Auf der europĂ€ischen Photovoltaik-Ausstellung PVSEC 2011 (Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition) vom 5. bis 8. September in Hamburg prĂ€sentiert das Fraunhofer-Institut fĂŒr Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP neue,
kostengĂŒnstige Herstellungsprozesse fĂŒr diese Anwendung.
DĂŒnnschicht-Solarzellen bestehen aus vielen Schichten unterschiedlicher Funktion. Im Zentrum befindet sich die Licht-absorbierende Schicht, an den Außenseiten schĂŒtzen Verkapselungsschichten die Solarzelle vor UmwelteinflĂŒssen und Kontaktschichten fĂŒhren den erzeugten Strom ab.
Mit seinem Technologie-Portfolio kann das Fraunhofer FEP diese Schichten auf große FlĂ€chen im Industriemaßstab abscheiden.
Ziel des Dresdener Institutes ist es, Schichten von hervorragender QualitÀt mit einer höheren ProduktivitÀt als bei derzeit verwendeten Fertigungsverfahren aufzubringen, um dadurch letztendlich die Produktionskosten zu mindern.
Dr. Torsten Kopte, Ansprechpartner fĂŒr »Solarenergie« am Fraunhofer FEP, schreibt der DĂŒnnschichttechnologie dabei großes Potential zu:
»Derzeit kosten gĂŒnstige Photovoltaik-Module einige hundert Euro pro Quadratmeter. FĂŒr die Zukunft erwarten wir, dass mit vakuumbasierten Beschichtungstechnologien, wie wir sie am Fraunhofer FEP verwenden, die Kosten fĂŒr die Herstellung von Photovoltaik-Modulen auf mindestens ein Zehntel reduziert werden können.«
Erfolgsversprechende Ergebnisse bei der Abscheidung von RĂŒckseitenkontakten konnten die Wissenschaftler bereits erzielen. So ist es ihnen gelungen, MolybdĂ€n-Schichten fĂŒr sogenannte CIGS-DĂŒnnschichtzellen mit zehnfach höherer ProduktivitĂ€t im Vergleich zu Konkurrenztechnologien abzuscheiden. FĂŒr Dr. Jens-Peter Heinß, Wissenschaftler am Fraunhofer FEP, gibt es weiterhin Luft nach oben: »Die hohe Beschichtungsrate von 60 Nanometern pro Sekunde ist zunĂ€chst ein Zwischenergebnis und ich bin sicher, dass wir diese Rate noch steigern können. Wichtig ist fĂŒr uns zunĂ€chst, dass bei dieser hohen Prozessgeschwindigkeit die Schichteigenschaften und die Effizienz der Zellen qualitativ gleichwertig mit denen langsamerer Verfahren geblieben sind.«
Auf der 26. PVSEC in Hamburg wird das Fraunhofer FEP weitere RĂŒckkontaktschichten fĂŒr CIGS-Zellen und flexible Solarzellen vorstellen. FĂŒr Informationen besuchen Sie uns am Stand der Wirtschaftsförderung Sachsen B6-B35.
Wissenschaftlicher Kontakt:
Dr. Marita MehlstÀubl
Fraunhofer-Institut fĂŒr Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP
Telefon +49 351 2586-214
marita.mehlstaeubl@fep.fraunhofer.de
Pressekontakt:
Annett Arnold
Fraunhofer-Institut fĂŒr Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP
Telefon +49 351 2586-452
annett.arnold@fep.fraunhofer.de

Weitere Informationen:
http://www.fep.fraunhofer.de



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